据日本媒体共同社7月2日报道，日本警视厅近日逮捕44岁塞浦路斯籍男子胡石（HUSHI，日本媒体音译“フー・シー”，常用名胡小伟）。警方调查发现，胡石最近一次于2025年10月入境日本，之后长期入住大阪市多家高档酒店。
警方表示，胡石涉嫌于今年4月向东京都中央区政府申报虚假的住址迁入信息，因涉嫌违反“电磁的公正证书原本不实记录及同供用罪”被依法逮捕。调查人员指出，在案件曝光前，警方已掌握其长期在日本活动的情况，并通过持续追踪及调阅监控录像，最终在大阪将其拘捕。
随着调查深入，日本警方已将侦办重点从虚假住址登记扩大至其在日本的经营活动及签证取得过程。报道称，胡石持有日本“高度专业职1号（ハ）”在留资格，该类别通常适用于企业经营者或高级管理人员，警方正调查其担任代表董事公司的实际经营状况，以及是否符合取得相关签证资格的条件。
公开企业登记资料显示，胡石担任代表董事的一家公司于2023年在东京都成立，经营范围涵盖贸易业务，公司注册资本随后由800万日元增至5000万日元。不过，日本媒体采访公司员工时，对方表示从未见过胡石本人。
此外，胡石近年来登记住址多次变更，先后登记于英国伦敦、东京、大阪及东京都中央区，其中最新登记地址正是警方认定涉嫌虚假申报的地点之一。
与胡石一同被捕的还有31岁中国籍公司职员李垠宏，其持有“高度专业职1号（ロ）”在留资格。日本媒体指出，案件暴露出日本在留资格制度可能存在被不当利用的风险。
目前，日本警方公布的直接案由仍为涉嫌虚假住址登记，但正进一步调查相关公司的实际经营情况、在留资格取得过程，以及是否涉及其他违法行为。
